Professor Titular em óptica, micro sensores e microeletrônica (UFMG). Coordenador de programa de pesquisa em metrologia e óptica avançada na indústria de fotolitografia (ASML). Consultor para soluções de Engenharia e Física para Óptica Oftálmica. Bacharelado em Física (1994), Mestrado em Física (1997), Doutorado em Óptica Adaptativa e Microeletrônica (2002).